Ion temperature measuring probe in a strongly magnetized plasma

雨宮 宏*; 上原 和也

Review of Scientific Instruments, 65(8), p.2607 - 2614, 1994/08

https://doi.org/10.1063/1.1144659

強磁場プラズマ中のイオン温度の測定が、静電プローブを用いて評価できることが、理論的に示され、原研JFT-2Mトカマクのエッジプラズマで実際に測定が行われた。静電プローブによるイオン温度測定法は、磁場に平行に置かれた、長さの違う2つの静電プローブをダブルプローブとして用いた時のイオン飽和電流の値から求めるものである。この方法は雨宮氏によって開発されたものであるが、この論文ではさらにこの方法を発展させプラズマ中に流れがある時の定式化を行い、実際のトカマクプラズマに適用できるものとした。実験はJFT-2Mトカマクでなされ、この方法によってイオン温度をオーミックプラズマ中及びNBI加熱中に求めることに成功した。

RFプラズマ源における高密度プラズマ生成実験

鈴木 靖生*; 花田 磨砂也; 奥村 義和; 田中 政信*

JAERI-M 92-156, 16 Pages, 1992/10

JAERI-M-92-156.pdf:0.9MB

イオン源の長パルス化とプラズマ中性化セルへの応用を目指してRFアンテナ挿入型の多極磁場型プラズマ源を試作した。プラズマ源は内径200mm、深さ270mmの円筒形であり、1~3ターンの銅製のアンテナが据え付けられている。プラズマ源に周波数2MHz、20kWの高周波電力を入力することにより、プラズマ源内水素ガス圧0.6Paにおいてイオン飽和電流密度120mA/cm、密度6.010cmのプラズマを得た。また、イオン飽和電流密度はプラズマ源内中心100mmの範囲内で一様であった。さらにアンテナの最適化を行い、アンテナ表面に絶縁被覆を施すことにより高密度なプラズマが生成できることを実証した。